光刻胶
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微纳制造新纪元：金属有机材料引领芯片刻蚀技术变革
技术突破的背景与意义 在当代科技发展中，微芯片已成为推动数字革命的核心引擎。随着物联网、人工智能和5G通信技术的快速普及，对芯片集成度和性能的要求呈现指数级增长。传统硅基芯片的制造工艺逐渐逼近物理极限，晶体管尺寸的微缩面临量子隧穿效应和热管理等多重挑战。这一背景促使全球科研机构和企业加速探索新一代芯片制造技术，其中光刻工艺的革新尤为关键。 极紫外光刻技术作为当前最先进的芯片制造技术，已实现7纳米及…
